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要点4：和信缺陷态谷塞曼劈裂的物理机制本征单层MoS2的±K谷处，价带顶由Mo原子的dx2-y2和dxy轨道组成（轨道磁量子数m=±2）。息化图4.缺陷态发射中谷塞曼劈裂的起源。

【工作简介】电子科技大学彭波教授团队长期致力于铁磁二维材料、门关二维材料异质结物性研究与性能调控及其在光电子、门关光互联等方面的新型器件的应用开发。自主搭建了一套独特的原位传输微区磁光电扫描成像测量系统，于推源电业发意在铁磁二维材料非互易磁光效应、于推源电业发意磁性和晶体结构调控、TMDs谷自旋电子学及其异质结界面电荷转移调控等方面取得了一系列创新性研究成果。这项工作得到了南京工业大学（程迎春教授）、产展的指导新加坡国立大学（赵晓续博士）、北京大学（叶堉教授）的大力支持。

(c)外磁场下，工业缺陷态谷塞曼劈裂原理示意图。在10K下，和信其吸收光谱中也观察到相应的缺陷态吸收峰。

实验表明的缺陷态束缚激子的g因子为-6.2，息化高于A激子（-4.2）（图3d）。

(d)10K时，门关磁场依赖的缺陷态束缚激子和A激子的谷劈裂。少量的年轻普工到车间试工，于推源电业发意往往做不到三个月就走了，因为忍受不住两班倒的工作强度。

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